刻胶用于极紫外光刻技术上，但因为光源能量大幅度增加了，之前的实操结果显示会出现不同且复杂的结果，进而影响芯片的良品率。”

罗晟点点头，说道：“到了EUV技术节点，这个不单单是我们的问题，竞争者也一样会遇到类似问题，还是得开拓新思路，想来当前业界其它的半导体设备、材料商都会想尽各种方式，或者提出新的光刻胶技术解决方案，让极紫外光刻技术可以持续使用，从而延续摩尔定律的寿命。”