1965年华夏科学院研制出65型接触式光刻机。

1970年代，华夏科学院开始研制计算机辅助光刻掩模工艺。

1972年，江城无线电元件三厂编写了行业生产指导《光刻掩模版的制造》。

1980年，清华大学研制成功第四代分步式投影光刻机，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平……

但是很可惜，华夏在1980年代放弃电子工业，诸如光刻机等科技计划被迫下马，搞园