在双倍曝光的基础下，也能够光刻14nm的芯片，但是次品率会大大增加，非常的得不偿失。

而14nm光刻机，就目前来说依旧是中高端的技术。

双倍曝光的情况下，它可以光刻7nm制程的芯片，甚至还可以四倍曝光……

28nm属于中低端技术，14nm就已经摸到了高端的边缘。

或许有人会说，荷兰的ASML已经在研发5nm光刻机，并且取得了重要的进展，但是研发出来和广泛应用