陈远喆虽然不算内行。

但是，作为身为声名远扬的投资界大佬，对于光刻机还是知道一二的。

就因为知道，所以此刻才显得如此震惊。

双重曝光光刻技术是指在光刻胶覆盖的晶片上分别进行两次曝光。

两次曝光是在同样的光刻胶上进行的，但使用不同的掩模版。

相比于紫外光刻技术，整整领先了一代。