目前国内的半导体设备，国产化率平均仅16%，可以细分为九个领域。

分别是：氧化/扩散炉(高温炉)、光刻设备、涂胶显影设备、蚀刻设备、离子注入设备、薄膜沉积设备、化学机械抛光设备、检测设备、清洗设备。

氧化/扩散炉(高温炉)市场主要被外资品牌占据，如米国应用材料、东瀛日立、东京电子等企业。国内目前只有北方华创在这个领域发展。

光刻设备方面，之前全球光